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日本掩膜版研討會(huì)行
2016-11-18 09:46
應(yīng)Mycronic邀請(qǐng)，今年四月上旬，我司出席了其舉辦的2016年掩膜版研討會(huì)。
會(huì)議在日本橫濱太平洋展覽中心舉行，這是全球唯一一個(gè)大面積掩膜版的技術(shù)研討會(huì)，來(lái)自世界各地大約150名相關(guān)人員參加了會(huì)議。
會(huì)議介紹了TFT面板的未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)，PPI從500PPI往800PPI發(fā)展，面板的分辨率從2um往1um發(fā)展，CD從+/-0.2um往+/-0.1um發(fā)展，Overlay從+/-0.65um往+/-0.35um發(fā)展，相應(yīng)的Panel局部平整度也從6um要求到2um。而一批技術(shù)開發(fā)也應(yīng)運(yùn)而生：
1、Canon計(jì)劃推出的新型DUV曝光機(jī)，用<375nm的DUV段代替原來(lái)的i,g,h波段，可以把線縫分辨率提升到1.2um。
2、Mycronic推出了P800光刻機(jī)，在P80光刻機(jī)的基礎(chǔ)上，采用最新定制的Final Lens，NA提升25%，像場(chǎng)畸變減少3—5倍，Pixel Size縮減20%，把最小線縫從0.75um減少到了0.55um，同時(shí)把原來(lái)的9Beam描畫提升到15Beam，這樣在大幅度提升分辨率和CD uniformity的基礎(chǔ)上，仍然保持了與P80同樣的描畫速度。
3、新型的i-line Pellicle和干法蝕刻也將應(yīng)用于TFT掩膜版，以配合DUV曝光機(jī)和PSM，增加曝光DOF，提升CD uniformity。
4、Mask的平整度對(duì)于Panel曝光質(zhì)量的影響被深入研究。Nikon公司Shimizu經(jīng)理介紹了掩膜版的平整度不好將造成曝光離交，影響CD；造成變形，影響位置精度和套合。超平坦掩膜版也得以誕生，這種掩膜版的整版平整度可以達(dá)到5um，局部可以達(dá)到2um，但是目前尚未發(fā)現(xiàn)并證明有能夠測(cè)量如此大面積、高精度平整度的測(cè)量機(jī)存在！
5、為了應(yīng)對(duì)高端封裝、MEMS、LED、3D molds的要求，在這次會(huì)上，Mycronic還推出了FPS-X光刻機(jī)，這是FPS-5500的升級(jí)版，這臺(tái)機(jī)器減小了Pixel size(23%)，提升了圖形質(zhì)量，同時(shí)把3Beam 激光增加到5Beam，掃描寬度加寬一倍，大大提升了描畫速度。
展廳位于橫濱海邊，環(huán)境優(yōu)美，又恰逢日本櫻花季，路旁櫻花成片，賞心悅目，不虛此行！
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